溅射靶材主要用于真空镀膜设备中，通过物理气相沉积（PVD）在基片上涂覆薄膜层，以增加新的功能或创建微小的连接，如薄膜晶体管（TFT）。用于制备溅射靶材的材料种类繁多，主要取决于最终的用途，因此既可以由纯金属制成，也可以由非常复杂的合金材料制成。先导薄膜材料为各行业客户提供不同材料所制成的平面靶材和旋转靶材，我们的制备技术先进，保证产品达到最佳的使用性能。
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