首 页
公司简介
产品与服务
应用与市场
合作与交流
EHS
加入我们
联系我们
CN
EN
EN
立即搜索
首页
公司简介
公司介绍
公司发展史
团队介绍
企业使命
资质荣誉
产品与服务
产品介绍
回收服务
应用与市场
显示
光伏
半导体
精密光学
LED
数据储存
玻璃
合作与交流
新闻资讯
展会
EHS
环境
健康与安全
环境信息公示
加入我们
薪酬福利
职业发展
招聘信息
联系我们
公司介绍
公司发展史
团队介绍
企业使命
资质荣誉
产品介绍
回收服务
显示
光伏
半导体
精密光学
LED
数据储存
玻璃
新闻资讯
展会
环境
健康与安全
环境信息公示
薪酬福利
职业发展
招聘信息
产品介绍
金属靶材
溅射靶材
陶瓷靶材
金属靶材
贵金属靶材
蒸发材料
高纯金属材料
氧化物
硒化物
氟化物
蒸发配件
产品介绍
溅射靶材
陶瓷靶材
金属靶材
贵金属靶材
蒸发材料
高纯金属材料
氧化物
硒化物
氟化物
蒸发配件
回收服务
回收服务
铜靶 (Cu)
索取该产品报价
铜靶通过真空溅射形成膜层,广泛应用于触摸屏、半导体、传感器、电路器件和装饰品等行业的器件镀膜。
元素符号
:
Cu
纯度
:
4N+
形状
:
平面靶
;
旋转靶
外观
:
红铜色金属
典型密度
:
8.57g/cm³
常规尺寸
:
平面靶
: D500mm
旋转靶
: L4000mm
其它尺寸可定制
相关产品
铝靶 (Al)
镍靶 (Ni)
钽靶 (Ta)
钛靶 (Ti)
返回列表页