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镍靶 (Ni)
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镍靶可通过真空溅射形成膜层，用于磁存储介质、半导体、LED等行业器件镀膜。
元素符号
:
Ni
纯度
:
4N+
形状
:
平面靶；旋转靶
外观
:
银色金属
典型密度
:
8.94g/cm³
常规尺寸
:
平面靶
: 2400x500x30mm
旋转靶
: L3000mm
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